气溶胶沉积法(AD)是一种革命性的生产厚陶瓷膜的方法
a kinetic particle spray. 沉积发生在室温下
与其他技术相比,速度非常快,几乎可以在任何地方完成
substrate material. 所得到的陶瓷涂层是纳米晶的,并且是完全的
dense. 在传感、催化、能源和摩擦学领域存在着巨大的潜力
related applications. Fuierer的团队在美国领先这项技术,
而他在拜罗伊特大学的德国同事则是欧洲的领导者.
他们一起设计了新的气体传感器和传感材料. Fuierer’s group
目前专注于沉积各种类型的功能陶瓷(e.g. Al2O3, TiO2, NiO, LiCoO3, MoS2并探索这些独特薄膜的其他应用领域. Also of
关注的是涂层的多尺度表面粗糙度和本征应力状态.
Recent Publications
J. Adamczyk, P. Fuierer, 气溶胶沉积纳米二氧化钛薄膜的压缩应力研究, Surfaces and Coating Technology (to be submitted).
P. Fuierer, M. Hinton, 用致密的纳米晶陶瓷涂覆管道内部的气溶胶方法
coating, Provisional Patent, WSGR Docket No. 47481-709.101, Nov. 2017, (patent pending).
J. Exner, M. Schubert, D. Hanft, T. Stoecker, P. Fuierer, R. Moos, Tuning of the electrical conductivity of Sr(Ti,Fe)O3 气溶胶与铝共沉积氧传感膜2O3,传感器和执行器B:化学230 427-433 (2016).
Recent Presentations
P. Fuierer气溶胶沉积:机械烧结陶瓷,一次一个颗粒,国际
Conference on SINTERING, San Diego, CA (Nov. 2017).
Ostlind, R. Calvo, P. Fuierer,真空动力学喷雾沉积厚膜陶瓷,第29届格兰德河学术研讨会
先进材料(RGSAM) 2017, Albuquerque, NM(10月. 2017).
J. Adamczyk, M. Hinton, R. Calvo, P. Fuierer,基材弯曲测量气溶胶沉积TiO2薄膜的本征应力,
第44届国际冶金涂层与薄膜会议(ICMCTF),上海
Diego, CA (April, 2017).
P. Fuierer气溶胶沉积:一种自上而下的纳米陶瓷厚膜方法,NMT GSA纳米技术
Symposium, NMT, (March 29, 2017).
Paul Fuierer (特邀),独特厚膜陶瓷微结构的气溶胶沉积,
第43届国际冶金涂层与薄膜会议(ICMCTF),上海
Diego, CA (April, 2016).
Joerg Exner, M. Shubert, T. Stoecker, D. Hanft, R. Moos, P. Fuierer,气溶胶对Sr(Ti,Fe)O3氧传感膜电导率的调节
co-deposition with Al2O3, 91st DKG Annual Conference & Symposium on High-Performanc
Ceramics, Freiberg, Germany (March 2016).
Jesse Adamczyk, P. Sarobol, A. Vackel, T. Homes, P. Fuierer,气溶胶沉积法在室温厚膜沉积中的应用,第28期
2016先进材料学术研讨会(RGSAM), Albuquerque, NM(10月. 2016).